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이천 SK하이닉스 공장서 가스누출


작업자 2명 병원 이송됐으나 30분만에 귀가 조치, 인명피해 없어

[김현주기자] 5일 오전 경기도 이천시 부발읍 SK하이닉스 공장 D램 반도체 공정라인에서 이산화규소 가스가 누출돼 작업자 2명이 병원 치료를 받았다.

5일 SK하이닉스에 따르면 이번 사고는 반도체 공정에 필요한 가스 공급배관 이음새가 노후화되면서 생긴 틈으로 가스가 누출되면서 발생했다.

부상자 2명은 두통과 구토 증세를 나타냈으나 심각한 이상은 없어 30여분만에 귀가 조치됐다. SK하이닉스는 만일의 경우를 대비해 작업장에 있던 직원 39명 역시 병원을 방문해 검사를 받게 했으나 이상이 나타나지 않았다.

누출된 이산화규소는 반도체 공정에 들어가는 불산이나 실란 가스와 같이 인체에 치명적인 유해성은 없는 것으로 알려졌다.

SK하이닉스는 사고가 발생한 가스공급 배관 이음새 수리 등 후속 처리를 마치고 오전 11시30분께 다시 공장을 재가동했다.

SK하이닉스 "갑자기 가스 냄새가 나 평소 훈련한 대로 직원이 대피했고 사고가 난 구역에 대해서는 사후 처리 프로세서를 준수해 조치했다"라며 "사고가 난 이후 3시간 이후 부터는 공장이 정상적으로 가동한 상태"라고 말했다.

김현주기자 hannie@inews24.com




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